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在一个单元格内，首先是一串连续的字符（任意字符、长度不固定，如本例中为：(CN102629671)），接下来是若干条（段）文字，并且都由数字开头，每小段文字为任意文本（长度不固定，包含汉字、英文、空格、标点符号、特殊字符、空格……以及含有圆括号数字，如（1）、（2）。）。
如何运用函数统计条数，本示例统计出的结果应为5.
附图中的文本：
(CN102629671)
1. 一种硅基微显示器的有机发光器件制备方法，其特征在于：具体制备工艺步骤如下：
（1）在平坦化的硅基衬e79fa5e98193e78988e69d83363底上制备绝缘层；
（2）对所述绝缘层进行干法刻蚀，露出像素区，同时刻蚀后的绝缘层截面为倒梯形截面；
（3）在步骤（2）所制备的硅衬底上制备具有光反射特性的像素电极，所述像素电极的厚度低于绝缘层厚度，从而使得像素与非像素区域被互相隔开；
（4）蒸发有机发光层，其厚度高于非发光区的边缘高度；
（5）制备OLED的半透明或透明阴极共电极。
2. 根据权利要求1所述的硅基微显示器的有机发光器件制备方法，其特征在于：所述步骤（1）和步骤（2）中的绝缘层为SiO[2]和Si[3]N[4]复合绝缘层，该复合绝缘层的制备方法为，首先制备SiO[2]层，厚度为500?至2500?，然后再制备Si[3]N[4]层，厚度为500 ?至2500 ?。
3. 根据权利要求1所述的硅基微显示器的有机发光器件制备方法，其特征在于：所述步骤（3）中的像素电极为金属材质或金属与具有空穴注入能力的高功函数无机半导体电极ITO形成的复合材质，电极厚度500?-1500 ?，并且必须低于绝缘层厚度。
4. 根据权利要求1所述的硅基微显示器的有机发光器件制备方法，其特征在于，所述步骤（4）中的有机发光层包括空穴注入层、空穴传输层、有机发光层、电子传输层以及电极注入层。
5. 根据权利要求1所述的硅基微显示器的有机发光器件制备方法，其特征在于，所述步骤（5）中的半透明阴极共电极的材质为银或铝/银复合材料，厚度为150?至250?，所述步骤（5）中的透明阴极共电极的材质为ITO，厚度为200?至1500?。